Laser Datenbank


Gaslaser

Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
Cs-Laser Cs 7.18 0.0001
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser
Untergruppe
-


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
He-Ne-Laser Ne 0.5435 / 0.5941 / 0.6040 / 0.6119 / 0.6328 / 06401 / 1.1526 / 1.5235 / 3.3913 0.1 - -
He-Xe-Laser Xe 3.507 0.01
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser Ein typischer Vertreter dieser Gruppe ist der HeNe-Laser. Dabei wird He-Atom durch optisches Pumpen angeregt. Durch Zusammenstoß wird die Energie an laseraktives Atom (in diesem Fall Ne) übergeben. Das Ne-Atom emitiert dann die sichtbare Strahlung mit 633nm.
Untergruppe
Atomlaser


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
Laser CO 4.9...5.8
Laser CO2 10...11
Laser DF 3.5...4.1
Laser HBr 4...4.7
Laser HCl 3.5...4.2
HF-Laser HF 2.5...4 10000 1 1 µs
Laser I 1.3
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser Reaktion für HF: HF2+F->HF*+H
Reaktion für I: O2*+I->O2+I*
Reaktion für HCl: H+Cl2->HCl*+Cl
Reaktion für DF: D2+F->DF*+D
Reaktion für HBr: H+Br2->HBr*+Br
Reaktion für CO: CS+O->CO*+S
Reaktion CO2: DF*+CO2->CO2*+DF

Wirkungsgrad: 10%
max. Leistung: 10000W
Untergruppe
Chemische Laser


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
Argonionenlaser Ar+ 0.3340 / 0.3511 / 0.3638 / 0.4579 / 0.4769 / 0.4765 / 0.4880 / 0.4965 / 0.5145 / 0.5287 100
Kryptonionenlaser Kr2+ 0.3374 / 0.3564 / 0.4131 / 0.4680 / 0.4825 / 0.5208 / 0.5309 / 0.5682 / 0.6471 / 0.6764 / 0.7525 / 0.7993 / (0.33...1.09) 10 - -
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser Wirkungsgrad: 0.1%
Untergruppe
Edelgasionenlaser


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
Excimerlaser ArCl 0.175
Excimerlaser ArF 0.193 - 0.4 20 ns
Excimerlaser KrCl 0.222 - 0.3 30 ns
Excimerlaser KrF 0.248 - 0.3 10 ns
Excimerlaser XeBr 0.282
Excimerlaser XeCl 0.308 - 1 20 ns
Excimerlaser XeF 0.351...0.353 - 0.3 30 ns
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser Wirkungsgrad: 1..2%
Rechteckiges Strahlprofil: etwa 10mmx30mm
Durch die UV-Strahlung induzierter "kalter Materialabtrag" funktioniert bei folgenden Materialien:
Polymere, Sprödharte-Werkstoffe (Keramiken), Glass
Das System arbeitet mit Überdruck 3...5bar.

Excimere sind zweiatomige Moleküle, die nur im angeregten Zustand stabil sind. In Excimerlasern, die erstmal 1970 vorgestellt wurden, werden Edelgas-Halogenide verwendet. Das Gas wird durch einen Hochspannungspuls angeregt, und die angeregte Atome bilden das angeregte Moleküle, welches als Excimer bezeichnet wird. Das Molekül geht nach einer typischen Lebensdauer von etwa 10 ns unter Aussendung eines Photons in den Grundzustand über.
Mikrolithographie
Mikromaterialbearbeitung
Mikrobohren
Schneiden
3D-Strukturieren
Annealing
Untergruppe
Excimer


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
He-Ag-Laser Ag
He-Cd-Laser Cd+ 0.3250 / 0.4416 / 0.5378 / 0.6368 0.1 - -
Hg-Laser Hg+ 0.5677 / 0.6150
He-Se-Laser Se 0.4976 / 0.4993 / 0.5069 / 0.5176 / 0.5253 / 0.5305 ? ? ?
He-Zn-Laser Zn+ 0.7479 / 0.7588 0.01
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser
Untergruppe
Metalldampfionenlaser


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
Golddampflaser Au 0.628 -
Kupferdampflaser Cu 0.5106 / 0.5782 - 0.002 20 ns
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser Pumplaser
Medizin
Untergruppe
Metalldampflaser


Bezeichnung Material Wellenlänge l(µm) Leistung P (W) Energie (J) Pulsdauer t
Ar2-Laser Ar2 0.126
Br2-Laser Br2 0.291
Ferninfrarotlaser C13H3F2 1022
Ferninfrarotlaser C2H2F2 375 / 764 / 890 / 1020
Ferninfrarotlaser CD3I 460
Ferninfrarotlaser CD3OD 41.0 / 46.7 / 57.0 / 184.0 / 229.1
Ferninfrarotlaser CH3F 496 - 0.05 50 ns
Ferninfrarotlaser CH3NH2 148.5 / 198.0
Ferninfrarotlaser CH3OH 70.6 / 96.5 / 118.8 / 112 / 163 / 570 / 599 / (40...1200) 0.1 0.001 100 µs
CO-Laser CO 0.181...0.197 / 5...7 20 0.04 1 µs
CO2-Laser CO2 10.6 / (9..11) 50000 10000 10 µs
D2-Laser D2 0.150...0.162
Ferninfrarotlaser D2O 66 - 0.04 2.5 µs
F2-Laser F2 0.157 - 0.3 30 ns
H2-Laser H2 0.150...0.162
Ferninfrarotlaser H2O 28 / 78 / 118 0.01 0.00001 30 µs
Ferninfrarotlaser HCN 311 / 337 1 0.001 30 µs
Kr2-Laser Kr2 0.146
Stickstofflaser N2 0.3371 - 0.01 1 ns
Xe2-Laser Xe2 0.172
Lasersystem Beschreibung / Zusatzinfos Anwendungen
Gaslaser
Untergruppe
Moleküllaser